°í·Á´ëÇб³ MEMS & Nano Engineering Lab

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ÀúÈñ MEMS & Nano Engineering ¿¬±¸½Ç¿¡¼­´Â ³ª³ë ¿µ¿ªÀÇ ±â°è, ÀüÀÚ, Àç·á, ¹ÙÀÌ¿À µîÀÇ ´Ù¾çÇÑ ºÐ¾ßÀÇ ¿¬±¸¸¦ ÁøÇàÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
ÇÙ½É ¿¬±¸ »çÇ×Àº ´ÙÀ½°ú °°½À´Ï´Ù.


¿Âµµ ¹× ¿­Àüµµµµ °èÃø¿ë °í¼º´É ÁÖ»çŽħ¿­Çö¹Ì°æ(SThM) Žħ °³¹ß
³ª³ë½ºÄÉÀÏ ¿Âµµ ¹× ¿­Àüµµµµ Á¤·® ºÐÆ÷ °èÃø ±â¼ú °³¹ß
¿­Àü¹°¼º °èÃø¿ë °í¼º´É ´ÙÀ̾Ƹóµå ¿­ÀüŽħ °³¹ß
³ª³ë½ºÄÉÀÏ ¿­Àü¹°¼º Á¤·® ºÐÆ÷ °èÃø ±â¼ú °³¹ß
³ª³ë ÀüÀÚ ¼ÒÀÚ(nano transistor)ÀÇ ¿¡³ÊÁö Àü´Þ Çö»ó °èÃø ¹× ºÐ¼®³ª³ë ¹ß±¤ ¼ÒÀÚ(LED)
   ³»ºÎ ¿¡³ÊÁö Àüȯ È¿À² ºÐ¼®
CNT ¹× ³ª³ë¼± ¼ÒÀÚÀÇ ¿¡³ÊÁö Àü´Þ Çö»ó °èÃø ¹× ºÐ¼®
 GrapheneÀÇ ¿­Àü´Þ°è¼ö(thermal conductivity) Á¤·®°èÃø
¿­-È­ÇÐ ³ª³ë Çü»óÈ­ ±â¼ú(Thermo-chemical nano lithography) °³¹ß


¶ÇÇÑ, º» ¿¬±¸½ÇÀº ±³À°ºÎÀÇ Brain Korea 21 »ç¾÷ Áö¿ø ¿¬±¸½ÇÀÌ¸ç ±¹°¡°úÁ¦ÀÎ ¡®Æ¯Á¤±âÃÊ¿¬±¸¡¯ °³¹ß»ç¾÷ °úÁ¦¿Í Engineering Research Center °úÁ¦ µî ´Ù¼öÀÇ °úÁ¦¸¦ ¼öÇàÇÏ¿´À¸¸ç, ÇöÀç »ï¼ºÀüÀÚ¿Í ¡®PRAM »ó¿ëÈ­¡¯ °úÁ¦¸¦, Çѱ¹Ç¥ÁØ°úÇבּ¸¿ø°ú 'Thermal Radiation Probe °³¹ß¡¯ °úÁ¦¸¦ ¼öÇàÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.


¿¬±¸¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤¿¡ ´ëÇÑ ±³À°Àº ¼­¿ï´ë ¹ÝµµÃ¼ °øµ¿¿¬±¸¼ÒÀÇ ±³À°À» ÅëÇØ ÀÌ·ç¾îÁö¸ç, MEMS °øÁ¤¼öÇàÀº ¼­¿ï´ë¿¡ À§Ä¡ÇÑ ¹ÝµµÃ¼ °øµ¿¿¬±¸¼Ò¿Í KIST¿¡ À§Ä¡ÇÑ Nano-Fab ¿¡¼­ ÀÌ·ç¾îÁý´Ï´Ù.

³ª³ë½ºÄÉÀÏÀÇ Çö»ó °üÂûÀ» À§ÇØ Veeco »çÀÇ Dimension Multi mode 5 AFM À» ½ÇÇè½Ç¿¡ º¸À¯ÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç ³ª³ë ½ÅÈ£ ºÐ¼®À» À§ÇÑ SRS»çÀÇ
Lock-in Amplifier 2´ë¿Í Spectrum Analyzerµî ´Ù¼öÀÇ ½ÇÇè±âÀÚÀ縦 º¸À¯ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

º» ¿¬±¸½ÇÀº âÀÇ°ü 432È£¿¡ ¼ÒÀçÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç, ½ÇÇè½ÇÀº âÀÇ°ü 512BÈ£¿¡ À§Ä¡ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.




1.º» ¿¬±¸½Ç¿¡ ÁøÇÐÇÏ´Â Çлý¿¡ ´ëÇؼ­´Â µî·Ï±Ý Àü¾×°ú °úÁ¦¼öÇà¿¡ µû¸¥ ÀΰǺñ°¡ Áö¿øµË´Ï´Ù.

2.ÇöÀç º» ¿¬±¸½Ç¿¡¼­´Â
  ¨ç °íÃâ·Â LED ³»ºÎ ¿¡³ÊÁö Àüȯ È¿À² °ü·Ã ¿¬±¸,
  ¨è Thermochemical nanolithography,
  ¨é ³ª³ë±¸Á¶Ã¼ÀÇ ¹°¸®Àû Ư¼º ¿¬±¸,
  ¨ê MEMS & ³ª³ë °¡°ø ±â¼ú
  ¨ë ³ª³ë °èÃø ±â¼ú
  ¨ì ³ª³ë ¼ÒÀÚ Á¦ÀÛ¿¡ °ü½ÉÀÖ´Â ÇлýµéÀ» ¸ðÁýÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

3.MEMS ¿¬±¸½Ç¿¡ °ü½ÉÀÖ´Â ÇлýµéÀº ´ëÇпø ÀԽà ½Ã±â¿Í °ü°è¾øÀÌ Ç×»ó À̸ÞÀÏ ¹× Á÷Á¢ ¹æ¹®À» ÅëÇÏ¿©
   ±³¼ö ¹× ±âÁ¸ ´ëÇпø»ýµé°ú ¸é´ãÀ» °¡Áú ¼ö ÀÖÀ¸¸ç ÁøÇà ¿¬±¸µé¿¡ °üÇÑ ÀÚ¼¼ÇÑ ¼³¸íÀ» µéÀ¸½Ç ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.