SSM ¹æ¹ýÀ» À§Çؼ´Â ¸Å¿ì Ư¼öÇÑ Å½Ä§ÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù. ¿Àü °è¼ö¸¦ ÃøÁ¤ÇÏ°íÀÚ ÇÏ´Â ´ë»óÀº ´ëºÎºÐÀÌ ¹ÝµµÃ¼¹°ÁúÀε¥ °¡Àå ³Î¸® »ç¿ëµÇ´Â ½Ç¸®ÄÜÀ» ºñ·ÔÇÑ ¿©·¯ ¹ÝµµÃ¼ ¹°ÁúÀº °ø±âÁß¿¡¼ Ç¥¸éÀÌ ¸Å¿ì ¾ã°Ô »êȵǾî Àü±âÀûÀ¸·Î Á¢ÃËÀÌ ½±Áö ¾Ê´Ù. µû¶ó¼ ¹ÝµµÃ¼ Ç¥¸é¿¡ Àü±âÀûÀ¸·Î Á¢ÃËÀ» Çϱâ À§Çؼ´Â ¸Å¿ì °ÇÑ ¹°Áú·Î ¸¸µç ŽħÀ¸·Î ¸Å¿ì °ÇÑ ÈûÀ» °¡ÇØ ´·¯¼ °Á¦ÀûÀ¸·Î Àü±âÀû Á¢ÃËÀ» ÀÌ·ç¾î³¾ ÇÊ¿ä°¡ ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ ÃøÁ¤ ¿ø¸®»ó Á¢ÃËÁ¡ÀÇ ¿Âµµ¸¦ ³ôÀº °ø°£ Çػ󵵷ΠÃøÁ¤ÇØ¾ß ÇÊ¿ä°¡ ÀÖÀ¸¹Ç·Î Žħ ³¡¿¡ ¿Âµµ ¼¾¼¸¦ Á¦ÀÛÇØ¾ß ÇÑ´Ù.
ÀÌ·¯ÇÑ Á¡¿¡ Âø¾ÈÇÏ¿© ŽħÀº ´ÙÀ̾Ƹóµå¹Ú¸·À» ÀÌ¿ëÇÏ¿© Á¦À۵ǾúÀ¸¸ç Žħ ³¡¿¡ ¿ÂµµÃøÁ¤À» À§ÇÑ ³ª³ëÅ©±âÀÇ ¿Àü½ÖÀ» Á¦ÀÛÇÏ¿´´Ù. ÁÂÃø ±×¸²Àº Á¦ÀÛ °úÁ¤À» µµ½ÄÈ ÇÑ °ÍÀ¸·Î Å©°Ô ´ÙÀ̾Ƹóµå ŽħÀÇ Á¦ÀÛ, Žħ ÷´Ü¿¡ ¿Àü½Ö Çü¼ºÀÇ µÎ ºÎºÐÀ¸·Î ³ª´µ¾îÁø´Ù. ¿À¸¥ÂÊ ±×¸²Àº Á¦ÀÛµÈ Å½Ä§ÀÇ ÀüÀÚÇö¹Ì°æ »çÁøÀÌ´Ù. ±×¸²¿¡¼ º¸µíÀÌ Å½Ä§ÀÇ ³¡Àº 20 nm ÀÌÇÏ·Î ¸Å¿ì »ÏÁ·Çϸç Žħ ÷´Ü ¿Àü½ÖÀÇ Å©±âµµ 500nmÀÌÇÏ·Î ¸Å¿ì Á¤¹ÐÇÔÀ» ¾Ë ¼ö ÀÖ´Ù. ŽħÀÇ Ã·´ÜÀº ¿Àü½ÖÀ» ÀÌ·ç´Â ±Ý°ú Å©·ÒÀ¸·Î µ¤Çô ÀÖÁö¸¸ ½Ç¸®ÄÜ°ú °°Àº ´Ü´ÜÇÑ Ç¥¸é¿¡ ¸îÂ÷·Ê ½ºÄµÇÏ¸é ±Ý¼Ó¸·ÀÌ ¹þ°ÜÁ® »ÏÁ·ÇÑ ´ÙÀ̾Ƹóµå ŽħÀÌ µå·¯³ª°Ô µÈ´Ù.
ÀÌ·¸°Ô Á¦ÀÛµÈ ´ÙÀ̾Ƹóµå ŽħÀº SSM ¹æ¹ýÀ» À§ÇØ ¸¸µé¾îÁø °ÍÀÌÁö¸¸, ´ÙÀ̾ƸóµåÀÇ °µµ¿Í °¡¿ÀÌ °¡´ÉÇÑ Æ¯¼ºÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© SSRM(Scanning resistance microscopy), ±â°èÀû ȤÀº ¿ ÈÇÐÀû ³ª³ë ÆÐÅÍ´× µî¿¡ ÀÀ¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.